- • 설치장소
- D동 B107호
- • 모델
- MDA-400M
- • 제조사
- MIDAS System
- • 담당자
| 담당자(1) | 신종찬 / slugger1227@gmail.com |
|---|---|
| 담당자(2) | 이지호 / deewigo@snu.ac.kr |
Type: Fully manual (Mask Aligner)
Mask size: up to 5" x 5"
Substrate size: piece to 4" dia
UV lamp & Power: 350W & power supply
Uniform beam size: 4.25" x 4.25"
Beam Uniformity: <±3%
Beam wavelength: 350 ~ 450nm
365nm Intensity: ~30mW/cm2
Alignment accuracy: 1um
Process resolution: 1um@1um PR thickness with vacuum contact
Process mode: Soft, Hard, Vacuum contact & Proximity
Substrate chuck moving: x,y,z & θ
Options: Anti-Vibration table, UV Intensity meter, etc.
노광 장비 사용 전 전력제어기의 레버를 미리 활성화하여 장비를 예열해야 합니다.
MASK Align을 맞추기 위해 휠을 과하게 돌릴 경우 시편이 부서지거나, Photomask가 손상될 수 있습니다!
Clean room 내에 존재하는 Positive photoresist의 기본 노광 시간은 3초, Negative photoresist은 10초입니다.
가끔씩 장비를 미리 예열했음에도 파란 빛이 나오며 노광이 진행 되지 않는 경우가 있습니다.
-> 위의 경우 장비를 모두 off한 뒤 잠시 시간을 두고 다시 전원을 on하면 진행됩니다.
(이 때도 정상적으로 동작하지 않을 시 연락 부탁드립니다.)
장비 예약 권한은 사용자 교육이 완료된 후 부여됩니다!!
