보유장비 및 예약

이용절차 보유장비 및 예약
FT-IR 분광계FTIR
고장
가스 크로마토그래프 질량분석기High Resolution Gas Chromatograph Mass Spectrometer
셋업
고분해능 질량분석기Q Exactive Orbitrap Mass Spectrometer
정상
공초점현미경Confocal microscope
정상
나노 입자 추적 분석기Nano particle Tracking Analyzer
셋업
동적광산란 입도분석기DLS(Dynamic Light Scattering)
정상
라만분광분석기Raman spectrometer
정상
마스크 얼라이너Mask Aligner
정상
마이크로플레이트 리더Microplate reader
정상
박막 분광분석기 (엘립소미터)Ellipsometer
정상
스핀코터Spin-coater
정상
알파스텝 프로파일러Alpha-step Profiler
정상
열중량분석기/시차주사열량계TGA/DSC
정상
유세포분석기Flow cytometry
정상
자외선-가시광선 분광분석기UV-Vis spectroscopy
정상
주사전자현미경(SEM)Mini-SEM
정상
초고분해능 형광 현미경 시스템Multi-functional optical imaging system
정상
토모큐브 (형광 홀로토모그래피 현미경)Tomocube
정상
형광광도계PL (Photo-Luminescence)
정상
형광현미경Fluorescence microscope
정상
마스크 얼라이너
Mask Aligner
마스크 얼라이너
• 설치장소
D동 B107호
• 모델
MDA-400M
• 제조사
MIDAS System
• 담당자
담당자(1) 신종찬 / slugger1227@gmail.com
담당자(2) 이지호 / deewigo@snu.ac.kr
정상
  • Type: Fully manual (Mask Aligner)
  • Mask size: up to 5" x 5"
  • Substrate size: piece to 4" dia
  • UV lamp & Power: 350W & power supply
  • Uniform beam size: 4.25" x 4.25"
  • Beam Uniformity: <±3%
  • Beam wavelength: 350 ~ 450nm
  • 365nm Intensity: ~30mW/cm2
  • Alignment accuracy: 1um
  • Process resolution: 1um@1um PR thickness with vacuum contact
  • Process mode: Soft, Hard, Vacuum contact & Proximity
  • Substrate chuck moving: x,y,z & θ
  • Options: Anti-Vibration table, UV Intensity meter, etc.
1. 노광 장비 사용 전 전력제어기의 레버를 미리 활성화하여 장비를 예열해야 합니다.
2. MASK Align을 맞추기 위해 휠을 과하게 돌릴 경우 시편이 부서지거나, Photomask가 손상될 수 있습니다.
3. Clean room 내에 존재하는 Positive photoresist의 기본 노광 시간은 3초, Negative photoresist은 10초입니다.
4. 가끔씩 장비를 미리 예열했음에도 파란 빛이 나오며 노광이 진행 되지 않는 경우가 있습니다.
 → 위의 경우 장비를 모두 off한 뒤 잠시 시간을 두고 다시 전원을 on하면 진행됩니다. (이 때도 정상적으로 동작하지 않을 시 연락 부탁드립니다.)
5. 장비 예약 권한은 사용자 교육이 완료된 후 부여됩니다.